濺射蒸碳儀 掃描電鏡實驗室樣品制備蒸發(fā)儀 濺射蒸碳分析儀
型號:HG19-ETD-2000C
是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，可靠、經濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。
特點：
增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
配置參數：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉泵（極限真空2×10-2mbar）
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